| 公開(公告)號 | CN1622943A |
| 公開(公告)日 | 2005.06.01 |
| 申請(專利)號 | CN02828462.3 |
| 申請日期 | 2002.10.11 |
| 專利名稱 | 含雜環(huán)鎓鹽 |
| 主分類號 | C07D311/16 |
| 分類號 | C07D311/16;C07D311/86;C08G59/00;G03F7/004 |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2002.3.4 JP 56697/2002 |
| 申請(專利權(quán))人 | 和光純藥工業(yè)株式會社 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人 | 石原正巳;浦野洋治;高橋昌弘 |
| 地址 | 日本大阪府大阪市 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | PCT/JP2002/010605 2002.10.11 |
| 進入國家日期 | 2004.09.03 |
| 專利代理機構(gòu) | 隆天國際知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 |
| 代理人 | 高龍鑫;王穎 |
| 國省代碼 | 日本;JP |
| 主權(quán)項 | 一種通式[1]或[35]表示的含雜環(huán)鎓鹽，[式中，R表示通式[2]表示的基團或通式[3]表示的基團，(式中，R3及R4分別獨立且表示鹵原子、可具有鹵原子或芳基作為取代基的烷基、或者可具有鹵原子或低級烷基作為取代基的芳基，X2表示氧原子或硫原子，i表示0～4的整數(shù)，j表示0～3的整數(shù))；(式中，R5及R6分別獨立并表示鹵原子、可具有鹵原子或芳基作為取代基的烷基、或者可具有鹵原子或低級烷基作為取代基的芳基，X3及X4分別獨立且表示氧原子或硫原子，p表示0～2的整數(shù)，q表示0～3的整數(shù))；R1及R2分別獨立且表示鹵原子、可具有鹵原子或芳基作為取代基的烷基、或者可具有鹵原子或低級烷基作為取代基的芳基，m及n分別獨立且表示0～5的整數(shù)；A表示鹵原子、或者來自無機強酸、有機酸或通式[4]表示的化合物的陰離子，HM1(R7)4[4](式中，M1表示硼原子或鎵原子，R7表示可具有選自鹵代低級烷基、鹵原子、硝基及氰基的取代基的芳基)]；[式中，R26及R27分別獨立且表示可具有鹵原子或低級烷基作為取代基的芳基、上述通式[2]表示的基團或通式[3]表示的基團，A3表示鹵原子、或者來自無機強酸、有機酸或通式[4]表示的化合物的陰離子，但是，R26及R27中的至少一種是上述通式[2]或[3]表示的基團，另外，當(dāng)R26及R27的任意一種中僅有一種是通式[2]或[3]表示的基團時，A3表示來自通式[36]表示的無機強酸、有機酸或通式[4]表示的化合物的陰離子，HM3F6[36](式中，M3表示磷原子、砷原子或銻原子)]。 |
| 摘要 | 本發(fā)明涉及適用于陽離子性光聚合引發(fā)劑、化學(xué)放大型抗蝕劑用酸發(fā)生劑的含雜環(huán)鎓鹽，提供一種用通式[1](式中，R表示用通式[2]或通式[3]表示的基團)表示的含雜環(huán)的锍鹽：如右式(1)、(2)或用通式[35]表示的含雜環(huán)的鎓鹽，如式[35](式中，R26及R27的至少一種是用上述通式[2]或[3]表示的基團)。 |
| 國際公布 | WO2003/074509 日 2003.9.12 |
