| 公開(公告)號 | CN100338064C |
| 公開(公告)日 | 2007.09.19 |
| 申請(專利)號 | CN02818431.9 |
| 申請日期 | 2002.09.20 |
| 專利名稱 | 用于生產碳青霉烯化合物的方法 |
| 主分類號 | C07D477/20(2006.01)I |
| 分類號 | C07D477/20(2006.01)I |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權 | 2001.9.26 US 60/325,130 |
| 申請(專利權)人 | 默克公司 |
| 發(fā)明(設計)人 | R·茨韋托維奇;R·溫斯羅;J·M·威廉斯;D·西德勒;L·克羅克;H·-H·董;B·K·約翰遜;J·庫庫拉二世;U·多林 |
| 地址 | 美國新澤西州 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | 2002-09-20 PCT/US2002/029879 |
| 進入國家日期 | 2004.03.19 |
| 專利代理機構 | 中國專利代理(香港)有限公司 |
| 代理人 | 關立新;譚明勝 |
| 國省代碼 | 美國;US |
| 主權項 | 一種降低式I碳青霉烯固體中有機溶劑濃度的方法：其中，R1和R2相同或不同，選自H、C1-15烷基、C6-10芳基和雜芳基，所述雜芳基是指具有5至6個環(huán)原子的單環(huán)芳烴基團，或具有8至10個原子的雙環(huán)芳基，它們含有至少一個雜原子O、S或N，其中碳或氮原子是連接點，并且其中任選有另一個碳原子被選自O或S的雜原子代替，以及其中任選有另外1至3個碳原子被氮雜原子代替，所述烷基、芳基和雜芳基任選被取代，取代基選自鹵素、羥基、氰基、�；�、酰胺基、芳烷氧基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、烷基磺酰基氨基、芳基磺酰基氨基、烷基氨基羰基、烷基、烷氧基、芳基、芳氧基、芳烷氧基、氨基、烷基氨基、二烷基氨基、羧基、三氟甲基、氨基甲酰氧基C1-6烷基、脲基C1-6烷基、氨基甲酰基、氨基甲酰基C1-6烷基或一或二C1-6烷基氨基甲�；鵆1-6烷基和磺酰氨基，該方法包括步驟：a)用含水的有機溶劑洗滌含有機溶劑的碳青霉烯固體，得到含有殘留有機溶劑的洗滌過的碳青霉烯固體；和b)用真空和/或惰性氣體在低溫蒸發(fā)在洗滌過的碳青霉烯固體中殘留的有機溶劑，得到式I的碳青霉烯固體，其含有藥學上可接受的濃度的有機溶劑，以及其中有機溶劑選自甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、乙酸甲酯、乙酸乙酯、醋酸異丙酯、丙酮和甲基乙基酮或它們的混合物，其中含水有機溶劑選自乙酸甲酯、乙腈、四氫呋喃和丙酮或它們的混合物，其中在該過程期間結晶碳青霉烯固體的水含量根據(jù)殘留有機溶劑做校正，保持在13％至25％。 |
| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種用于將在式I所示碳青霉烯固體或其鹽的熱不穩(wěn)定結晶中的有機溶劑的濃度降低至藥學上可接受的程度的方法，其中R1和R2相同或不同，選自H、烷基、芳基和雜芳基，該方法包括用含水的有機溶劑洗滌含有有機溶劑的碳青霉烯固體；然后使用真空和/或干燥)在低溫蒸發(fā)在洗滌過的碳青霉烯固體中的殘留有機溶劑，得到含有藥學上可接受程度的殘留有機溶劑的碳青霉烯固體結晶，其中碳青霉烯固體結晶的水含量，作殘留有機溶劑方面的校正，在該過程中保持在約13％至約25％。 |
| 國際公布 | 2003-04-03 WO2003/027067 英 |
