| 公開(公告)號 | CN101027286A |
| 公開(公告)日 | 2007.08.29 |
| 申請(專利)號 | CN200580032268.2 |
| 申請日期 | 2005.09.21 |
| 專利名稱 | 作為11b-HSD1抑制劑的吲唑酮衍生物 |
| 主分類號 | C07D231/56(2006.01)I |
| 分類號 | C07D231/56(2006.01)I;C07D413/12(2006.01)I;C07D407/12(2006.01)I;C07D403/04(2006.01)I;A61K31/416(2006.01)I;A61K31/4245(2006.01)I;A61K31/4439(2006.01)I;A61P3/04(2006.01)I;A61P3/10(2006.01)I |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2004.9.29 EP 04104753.1 |
| 申請(專利權(quán))人 | 霍夫曼－拉羅奇有限公司 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人 | 庫爾特·阿姆雷因;蔡建平;羅伯特·阿蘭·小古德諾;丹尼爾·洪齊格;貝恩德·庫恩;亞歷山大·邁韋格;維爾納·奈德哈特 |
| 地址 | 瑞士巴塞爾 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | 2005-09-21 PCT/EP2005/010175 |
| 進入國家日期 | 2007.03.23 |
| 專利代理機構(gòu) | 中科專利商標代理有限責(zé)任公司 |
| 代理人 | 柳春琦 |
| 國省代碼 | 瑞士;CH |
| 主權(quán)項 | 式(I)的化合物 其中 R1為氫、低級-烷基、芳基或芳基-低級-烷基； R2為芳基、芳基-低級-烷基、雜芳基、雜芳基-低級-烷基、環(huán)烷基、環(huán)烷基-低級-烷基、氟代-低級-烷基或低級-烷基，所述的低級-烷基任選地被1至3個取代基取代，所述的取代基選自：OH、CN、鹵素、低級-烷氧基和C(O)NR8R9； R3為氫、鹵素、低級-烷基、氟代-低級-烷基、低級-烷氧基或氟代-低級-烷氧基； R4為氫、鹵素、低級-烷基、氟代-低級-烷基、低級-烷氧基或氟代-低級-烷氧基； R5為氫、鹵素、低級-烷基、氟代-低級-烷基、低級-烷氧基或氟代-低級-烷氧基； R6為氫或低級-烷基； R7為芳基、雜芳基、氟代-低級-烷基或低級-烷基，所述的低級-烷基任選地被1至3個取代基取代，所述的取代基選自：OH、CN、鹵素、低級-烷氧基和環(huán)烷基； R8和R9彼此獨立地選自：氫和低級-烷基； 及其藥用鹽。 |
| 摘要 | 式(I)的化合物及其藥用鹽和酯，其中R1到R7具有說明書和權(quán)利要求書中給出的含義，能夠以藥物組合物形式使用。式(I)的化合物是11b-HSD1抑制劑。 |
| 國際公布 | 2006-04-06 WO2006/034804 英 |
