| 公開(公告)號 | CN1835928A |
| 公開(公告)日 | 2006.09.20 |
| 申請(專利)號 | CN200480009255.9 |
| 申請日期 | 2004.04.07 |
| 專利名稱 | 作為鈣敏感受體拮抗劑的嘧啶酮化合物 |
| 主分類號 | C07D239/36(2006.01)I |
| 分類號 | C07D239/36(2006.01)I;C07D239/80(2006.01)I;A61K31/505(2006.01)I;A61K31/517(2006.01)I |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2003.4.7 US 60/460,859;2003.6.18 US 60/479,323 |
| 申請(專利權(quán))人 | NPS制藥公司;史密絲克萊恩比徹姆公司 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人 | 伊里娜·V·謝爾巴科娃;曼紐爾·F·巴蘭德林;黃光飛;奧托·若弗魯瓦;約翰·福克斯;羅伯特·馬奎斯;丹尼斯·信二·山下;朱昂·盧恩戈;王文勇 |
| 地址 | 美國猶他州 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | 2004-04-07 PCT/US2004/010638 |
| 進入國家日期 | 2005.10.08 |
| 專利代理機構(gòu) | 中原信達知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 |
| 代理人 | 郭國清;樊衛(wèi)民 |
| 國省代碼 | 美國;US |
| 主權(quán)項 | 一種具有如下化學(xué)式的化合物： 其中： R1和R2獨立地是下述基團之一：H，鹵素，CN，CF3，低級烷基，環(huán)alk，及芳基；或R1和R2一起是-(CH2)n-，n是5，4，或3； R3是芳基，在芳環(huán)上可有1～4個取代基，每個取代基是下述基團之一：H，鹵素，CN，CF3，OCF3，低級烷基，N(低級烷基)2，低級烷氧基，OH，OC(O)-低級烷基，OC(O)-低級烷氨基，及OC(O)-低級烷基-N(低級烷基)2； R4是下述基團之一：H，低級烷基，及式-(CH2)n-R5，其中n是0，1，或2，及R5是芳基，在芳環(huán)上可有1～3取代基，每個取代基是下述基團之一：H，鹵素，CN，CF3，OCF3，低級烷基，低級烷氧基，NH-低級烷基，NH-烷芳基，N(低級烷基)2，OH，OC(O)-低級alk，OC(O)-低級烷氨基，及OC(O)-低級烷基-N(低級alk)2； 及其藥物可接受的鹽或配合物。 |
| 摘要 | 本發(fā)明公開了嘧啶酮化合物。也公開了制備嘧啶酮化合物的方法。 |
| 國際公布 | 2004-10-28 WO2004/092120 英 |
