| 公開(公告)號 | CN101044135A |
| 公開(公告)日 | 2007.09.26 |
| 申請(專利)號 | CN200580035690.3 |
| 申請日期 | 2005.10.07 |
| 專利名稱 | 喹啉衍生物 |
| 主分類號 | C07D401/06(2006.01)I |
| 分類號 | C07D401/06(2006.01)I;C07D215/20(2006.01)I;A61K31/47(2006.01)I |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2004.10.19 EP 04105145.9 |
| 申請(專利權(quán))人 | 霍夫曼-拉羅奇有限公司 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人 | 西爾維婭·加蒂麥克阿瑟;科妮莉亞·赫特爾;馬蒂亞斯·海因里�！�(nèi)特科文;蘇珊·拉夫;漢斯·里希特;奧利維耶·羅什;羅莎·瑪麗亞·羅德里格斯-薩爾米恩托;弗蘭澤·舒勒 |
| 地址 | 瑞士巴塞爾 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | 2005-10-07 PCT/EP2005/010814 |
| 進(jìn)入國家日期 | 2007.04.18 |
| 專利代理機(jī)構(gòu) | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 |
| 代理人 | 柳春琦 |
| 國省代碼 | 瑞士;CH |
| 主權(quán)項 | 通式I的化合物， 其中 R1選自氫， 低級烷基，低級鏈烯基， 環(huán)烷基或低級環(huán)烷基烷基，其中所述環(huán)烷基環(huán)可以是未取代的或者被選自低級烷基、低級羥烷基和低級烷氧基烷基中的一個或兩個基團(tuán)取代， 低級羥烷基， 低級烷氧基烷基，和 低級雜環(huán)基烷基，其中所述雜環(huán)基環(huán)可以是未取代的或者被選自低級烷基和鹵素中的一個或兩個基團(tuán)取代； R2選自氫， 低級烷基，低級鏈烯基， 環(huán)烷基或低級環(huán)烷基烷基，其中所述環(huán)烷基環(huán)可以是未取代的或者被選自低級烷基、低級羥烷基和低級烷氧基烷基中的一個或兩個基團(tuán)取代， 低級羥烷基， 低級烷氧基烷基，和 低級雜環(huán)基烷基，其中所述雜環(huán)基環(huán)可以是未取代的或者被選自低級烷基和鹵素中的一個或兩個基團(tuán)取代；或者 R1和R2與它們連接的氮原子一起形成任選含有另外的選自氮、氧或硫的雜原子的4-、5-、6-或7-元飽和或部分不飽和的雜環(huán)，所述飽和或部分不飽和的雜環(huán)是未取代的或被一個、兩個或三個獨(dú)立地選自下組的基團(tuán)取代：低級烷基、鹵素、鹵代烷基、氰基、羥基、羥烷基、低級烷氧基、氧代基、苯基、芐基、吡啶基和氨基甲�；�； A選自 其中 m是0、1或2； R3是低級烷基； n是0、1或2； R7是低級烷基； p是0、1或2； q是0、1或2； R5是氫或低級烷基； 及其藥用鹽。 |
| 摘要 | 本發(fā)明涉及式(I)化合物及其藥用鹽，其中R1、R2和A如說明書和權(quán)利要求書中定義，還涉及包含這些化合物的藥物組合物和它們的制備方法。所述化合物可用于治療和/或預(yù)防與H3受體的調(diào)節(jié)有關(guān)的疾病。 |
| 國際公布 | 2006-05-04 WO2006/045416 英 |
