公開(公告)號
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CN101056865A
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公開(公告)日
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2007.10.17
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申請(專利)號
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CN200580038248.6
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申請日期
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2005.11.02
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專利名稱
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氨基喹唑啉化合物
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主分類號
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C07D239/42(2006.01)I
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分類號
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C07D239/42(2006.01)I;A61K31/517(2006.01)I
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分案原申請?zhí)? |
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優(yōu)先權
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2004.11.9 US 60/626,288;2005.9.8 US 60/715,260
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申請(專利權)人
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霍夫曼-拉羅奇有限公司
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發(fā)明(設計)人
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斯蒂文·約瑟夫·貝特爾;阿德里安·慧慶·張;克希蒂吉·查比爾波!に_卡;員維亞
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地址
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瑞士巴塞爾
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頒證日
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國際申請
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2005-11-02 PCT/EP2005/011682
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進入國家日期
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2007.05.09
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專利代理機構
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中科專利商標代理有限責任公司
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代理人
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王 旭
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國省代碼
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瑞士;CH
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主權項
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式(I)的化合物 其中X為下式的基團X-1 或者X為下式的基團X-2 其中 R1和R2各自獨立地選自:氫,低級烷基,烷氧基低級烷基,和羥基低級烷基,除了R1和R2不能同時為氫以外; R3,R4,R6和R7各自獨立地選自:氫,低級烷基,取代的低級烷基,低級烷氧基,取代的低級烷氧基,羥基,鹵素,低級烷硫基,低級烷基亞磺;图壨榛酋;,氨基磺;,氰基,硝基,氨基甲酰基,低級烷基氨基甲;图壨轷;减;,芳基,芳氧基,芳基低級烷氧基,芳基低級鏈烯基,芳基低級炔基,低級鏈烯基,低級炔基,低級烷基氨基,取代的低級烷基氨基,低級烷;被酋;被,環(huán)烷基,雜環(huán)烷基,雜環(huán)基氧基,雜環(huán)基羰基,羧基,低級烷氧基羰基,和下式的取代基: R5選自:氫,低級烷基,低級烷氧基,烷氧基低級烷基,烷氧基低級烷氧基,羥基低級烷基,羥基,羥基烷氧基,鹵素,低級烷硫基,低級烷基亞磺;图壨榛酋;,全氟低級烷基,低級烷;减;蓟不,低級炔基和低級烷酰基氨基; 為含有1至2個選自氧、硫和氮的雜原子的5或6元雜芳族環(huán); R8和R9各自獨立地為氫,低級烷基,低級烷氧基,全氟低級烷基,鹵素,芳基低級烷基,芳基,或芳基低級烷氧基; 或其藥用鹽。
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摘要
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本發(fā)明涉及式(I)的化合物,其中R1、R2和X如說明書和權利要求中所定義。本發(fā)明的化合物是PTP-1B抑制劑,并可以用作藥物。
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國際公布
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2006-05-18 WO2006/050843 英
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