| 公開(公告)號 | CN1708483A |
| 公開(公告)日 | 2005.12.14 |
| 申請(專利)號 | CN200380102010.6 |
| 申請日期 | 2003.10.22 |
| 專利名稱 | 制備吡唑化合物的方法 |
| 主分類號 | C07D231/38 |
| 分類號 | C07D231/38 |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2002.10.23 US 60/420,590 |
| 申請(專利權(quán))人 | 萬有制藥株式會社 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人 | 間瀨俊明;飯?zhí)飫倧?門脅千惠;川崎雅史;淺川堅一;羽下裕二 |
| 地址 | 日本東京 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | 2003-10-22 PCT/JP2003/013507 |
| 進(jìn)入國家日期 | 2005.04.25 |
| 專利代理機(jī)構(gòu) | 中原信達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 |
| 代理人 | 樊衛(wèi)民;楊 青 |
| 國省代碼 | 日本;JP |
| 主權(quán)項 | 制備式I′的化合物、或其鹽、水合物或多晶型物的方法，其中R1和R2都獨(dú)立地選自：(1)氫，(2)鹵素，(3)硝基，(4)低級烷基，(5)鹵代(低級)烷基，(6)羥基(低級)烷基，(7)環(huán)(低級)烷基，(8)低級鏈烯基，(9)低級烷氧基，(10)鹵代(低級)烷氧基，(11)低級烷硫基，(12)羧基，(13)低級烷�；�，(14)低級烷氧基羰基，(15)選擇性地被氧代取代的低級亞烷基，和(16)-Q-Ar2，其中Q選自單鍵和羰基，和其中Ar2選自：(1)芳基，和(2)雜芳基，其中Ar2為未取代的或被選自以下的取代基取代：(a)鹵素，(b)氰基，(c)低級烷基，(d)鹵代(低級)烷基，(e)羥基(低級)烷基，(f)羥基，(g)低級烷氧基，(h)鹵代(低級)烷氧基，(i)低級烷基氨基，(j)(二低級烷基)氨基，(k)低級烷�；�，和(l)芳基；所述方法包括步驟：(a)形成肼溶液；(b)向步驟(a)的肼溶液中加入式V的化合物形成混合物；和其中R3選自(1)低級烷基，(2)芳基，和(3)-CH2芳基，(c)加熱步驟(b)的混合物到約50℃到約100℃的溫度；以得到化合物I’、或其鹽、水合物或多晶型物。 |
| 摘要 | 本發(fā)明涉及制備式I的吡唑化合物的方法。 |
| 國際公布 | 2004-05-06 WO2004/037794 英 |
