| 公開(公告)號 | CN1717393A |
| 公開(公告)日 | 2006.01.04 |
| 申請(專利)號 | CN200380104548.0 |
| 申請日期 | 2003.11.14 |
| 專利名稱 | 用作COX-1抑制劑的吡唑衍生物 |
| 主分類號 | C07D231/12(2006.01)I |
| 分類號 | C07D231/12(2006.01)I;C07D231/14(2006.01)I;C07D231/18(2006.01)I;C07D401/04(2006.01)I;C07D413/04(2006.01)I |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權 | 2002.12.2 AU 2002-953019;2002.12.30 AU 2002-953602;2003.4.29 AU 2003-902015 |
| 申請(專利權)人 | 藤澤藥品工業(yè)株式會社 |
| 發(fā)明(設計)人 | 白井文幸;薊英范;茅切奈津子;奧村和央;中村克哉 |
| 地址 | 日本大阪府大阪市 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | 2003-11-14 PCT/JP2003/014489 |
| 進入國家日期 | 2005.05.30 |
| 專利代理機構 | 中國專利代理(香港)有限公司 |
| 代理人 | 龐立志 |
| 國省代碼 | 日本;JP |
| 主權項 | 一種以下結構式(I)化合物或其鹽：其中R1為氫或低級烷基；R2為任選被鹵素、羥基、低級烷氧基亞氨基或低級烷氧基取代的低級烷基；低級烯基；環(huán)烷基；氰基；低級烷酰基；環(huán)烷基羰基；N，N-二(低級)烷基氨基甲�；�；氨基甲酰基；N-低級烷氧基-N-低級烷基氨基甲酰基；氨基；二(低級)烷基氨基；低級烷氧基羰基氨基；N，N-二(低級)烷基氨基甲�；被籒-(N，N-二(低級)烷基氨基甲酰基)-N-低級烷基氨基；鹵素；羥基；羧基；低級烷氧基羰基；芳�；�；雜環(huán)基羰基；雜環(huán)基；低級烷基磺�；�；任選被低級烷氧基、N，N-二(低級)烷基氨基甲�；螓u素取代的低級烷氧基；環(huán)烷氧基；低級烷硫基；或低級烷基亞磺�；籖3為任選被氨基、氨基甲�；被虻图壨榛酋；被〈牡图壨榛�；鹵素；氰基；羥基；低級烷酰氧基；低級亞烷基二氧基；任選被以下基團取代的低級烷氧基：芳基、羥基、氰基、氨基、低級烷氧基羰基氨基、低級烷基磺�；被虬被柞；被�；硝基；氨基；雜環(huán)基；低級烷硫基；低級烷基亞磺�；�；或低級烷基磺�；�；R4為氫；氰基；任選被鄰苯二甲�；虻图壨榛〈陌被环蓟�；雜環(huán)基；低級烷氧基；羥基；低級烷基磺酰氧基；低級烷酰氧基；被三苯甲基氨基和低級烷氧基羰基、氨基和低級烷氧基羰基、氨基和羧基、氨基和氨基甲酰基、或者氨基和羥基取代的低級烷基；N-低級烷氧基羰基-N-低級烷基氨基；任選被鹵素取代的低級烷酰基；羧基；低級烷基磺�；�；磺基；低級烷基甲硅烷基氧基；低級烷氧基羰基；任選被低級烷基取代的氨磺�；蝗芜x被低級烷基取代的氨基甲�；�；低級烷硫基；低級烷基亞磺酰基；氨基甲�；趸�；硫脲基；或以下結構式的基團：R5-G-J-其中G為-CO-或-SO2-；J為-N-(R6)-(其中R6為氫或低級烷基)；且R5為任選被低級烷氧基羰基或低級烷基取代的氨基；任選被羥基、低級烷氧基羰基氨基、低級烷酰氧基、氨基或鹵素取代的低級烷基；低級烷氧基；氫；雜環(huán)基；或芳基；X為O、S、SO或SO2；Y為CH或N；Z為低級亞烷基或低級亞烯基；且m為0或1；前提條件是當R4為氫時；則R3為被氨基、氨基甲�；被虻图壨榛酋；被〈牡图壨榛�；或被以下基團取代的低級烷氧基：芳基、羥基、氰基、氨基、低級烷氧基羰基氨基、低級烷基磺酰基氨基或氨基甲�；被�。 |
| 摘要 | 可用作藥物的結構式(I)化合物或其鹽，式(I)中R1為氫或低級烷基；R2為低級烷基等；R3為低級烷氧基等；R4為羥基等；X為O、S等；Y為CH或N；Z為低級亞烷基或低級亞烯基；且m為0或1。 |
| 國際公布 | 2004-06-17 WO2004/050632 英 |
