公開(公告)號
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CN1273456C
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公開(公告)日
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2006.09.06
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申請(專利)號
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CN01816494.3
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申請日期
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2001.09.28
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專利名稱
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噻唑和噁唑衍生物
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主分類號
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C07D263/32(2006.01)I
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分類號
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C07D263/32(2006.01)I;C07D277/26(2006.01)I;C07D413/12(2006.01)I;C07D417/04(2006.01)I;C07D417/12(2006.01)I;C07D417/14(2006.01)I;A61K31/421(2006.01)I;A61K31/422(2006.01)I;A61K31/426(2006.01)I;A61K31/427(2006.01)I;A61P9/04(2006.01)I;A61P11/00(2006.01)I;A61P13
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分案原申請?zhí)? |
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優(yōu)先權(quán)
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2000.9.29 JP 298199/2000
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申請(專利權(quán))人
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鹽野義制藥株式會社
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發(fā)明(設(shè)計(jì))人
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渡邊文彥;田村嘉則
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地址
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日本大阪府
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頒證日
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國際申請
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2001-09-28 PCT/JP2001/008507
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進(jìn)入國家日期
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2003.03.28
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專利代理機(jī)構(gòu)
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中國專利代理(香港)有限公司
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代理人
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張?jiān)?劉 冬
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國省代碼
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日本;JP
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主權(quán)項(xiàng)
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一種式(I)的化合物,其旋光物或藥學(xué)可接受的鹽:其中R1是羥基或低級烷氧基;R2是氫原子、任選被羧基、氨基甲;虻图壨榱蚧〈牡图壨榛、任選被羥基取代的苯基、任選被羥基取代的苯甲基、任選被羥基取代的苯乙基、任選被羥基取代的吲哚基甲基或任選被羥基取代的咪唑基甲基;R3是氫原子或低級烷基;R7各自獨(dú)立地是氫原子、鹵素、低級烷基、環(huán)烷基、低級烯基、低級炔基、低級烷氧基、低級鏈烯氧基、低級烷硫基、鹵代低級烷基、羥基、羧基、低級烷氧基羰基、氨基甲;、乙酰基、丙;⒈郊柞;⑾趸、氰基、氨基、甲基氨基、二甲基氨基、乙基甲基氨基、二乙基氨基或乙;被;m是0、1、2或3。
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摘要
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一種通式(I)的化合物,其旋光物、前藥、藥學(xué)可接受的鹽或其異構(gòu)體、前藥或溶劑化物以及含有該化合物、其旋光物、前藥、鹽或溶劑化物的金屬蛋白酶抑制劑;其中R1是羥基等;R2是任選取代的低級烷基等;R3是氫原子等;R4是任選取代的亞芳基等;R5是式(II)或(III)表示的基團(tuán)等;R6是任選取代的芳基等。
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國際公布
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2002-04-11 WO2002/028844 日
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