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噻唑和噁唑衍生物

醫(yī)藥數(shù)據(jù)庫中心 藥學(xué)論壇 鹽野義制藥株式會社/渡邊文彥;田村嘉則
公開(公告)號 CN1273456C  
公開(公告)日 2006.09.06  
申請(專利)號 CN01816494.3  
申請日期 2001.09.28  
專利名稱 噻唑和噁唑衍生物  
主分類號 C07D263/32(2006.01)I  
分類號 C07D263/32(2006.01)I;C07D277/26(2006.01)I;C07D413/12(2006.01)I;C07D417/04(2006.01)I;C07D417/12(2006.01)I;C07D417/14(2006.01)I;A61K31/421(2006.01)I;A61K31/422(2006.01)I;A61K31/426(2006.01)I;A61K31/427(2006.01)I;A61P9/04(2006.01)I;A61P11/00(2006.01)I;A61P13  
分案原申請?zhí)?  
優(yōu)先權(quán) 2000.9.29 JP 298199/2000  
申請(專利權(quán))人 鹽野義制藥株式會社  
發(fā)明(設(shè)計(jì))人 渡邊文彥;田村嘉則  
地址 日本大阪府  
頒證日  
國際申請 2001-09-28 PCT/JP2001/008507  
進(jìn)入國家日期 2003.03.28  
專利代理機(jī)構(gòu) 中國專利代理(香港)有限公司  
代理人 張?jiān)?劉 冬  
國省代碼 日本;JP  
主權(quán)項(xiàng) 一種式(I)的化合物,其旋光物或藥學(xué)可接受的鹽:其中R1是羥基或低級烷氧基;R2是氫原子、任選被羧基、氨基甲;虻图壨榱蚧〈牡图壨榛、任選被羥基取代的苯基、任選被羥基取代的苯甲基、任選被羥基取代的苯乙基、任選被羥基取代的吲哚基甲基或任選被羥基取代的咪唑基甲基;R3是氫原子或低級烷基;R7各自獨(dú)立地是氫原子、鹵素、低級烷基、環(huán)烷基、低級烯基、低級炔基、低級烷氧基、低級鏈烯氧基、低級烷硫基、鹵代低級烷基、羥基、羧基、低級烷氧基羰基、氨基甲;、乙酰基、丙;⒈郊柞;⑾趸、氰基、氨基、甲基氨基、二甲基氨基、乙基甲基氨基、二乙基氨基或乙;被;m是0、1、2或3。  
摘要 一種通式(I)的化合物,其旋光物、前藥、藥學(xué)可接受的鹽或其異構(gòu)體、前藥或溶劑化物以及含有該化合物、其旋光物、前藥、鹽或溶劑化物的金屬蛋白酶抑制劑;其中R1是羥基等;R2是任選取代的低級烷基等;R3是氫原子等;R4是任選取代的亞芳基等;R5是式(II)或(III)表示的基團(tuán)等;R6是任選取代的芳基等。  
國際公布 2002-04-11 WO2002/028844 日  
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