| 公開(公告)號(hào) | CN1874769A |
| 公開(公告)日 | 2006.12.06 |
| 申請(qǐng)(專利)號(hào) | CN200480032655.1 |
| 申請(qǐng)日期 | 2004.09.01 |
| 專利名稱 | MEK的雜環(huán)抑制劑及其使用方法 |
| 主分類號(hào) | A61K31/42(2006.01)I |
| 分類號(hào) | A61K31/42(2006.01)I;C07D261/20(2006.01)I |
| 分案原申請(qǐng)?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2003.9.3 US 10/654,580;2004.8.30 US 10/929,295 |
| 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 陣列生物制藥公司 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人 | 伊萊·華萊士;布賴恩·赫爾利;楊鴻云;約瑟夫·萊希凱托斯;阿莉森·L.·馬洛;吉姆·布萊克 |
| 地址 | 美國科羅拉多 |
| 頒證日 | |
| 國際申請(qǐng) | 2004-09-01 PCT/US2004/028649 |
| 進(jìn)入國家日期 | 2006.05.08 |
| 專利代理機(jī)構(gòu) | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 |
| 代理人 | 張曉威 |
| 國省代碼 | 美國;US |
| 主權(quán)項(xiàng) | 式(I)的化合物及其藥學(xué)可接受的鹽、前藥和溶劑合物， 其中： R1、R2、R7、R8、R9和R10獨(dú)立地為氫、鹵素、氰基、硝基、三氟甲基、二氟甲氧基、三氟甲氧基、疊氮基、-OR3、-C(O)R3、-C(O)OR3、NR4C(O)OR6、-OC(O)R3、-NR4SO2R6、-SO2NR3R4、-NR4C(O)R3、-C(O)NR3R4、-NR5C(O)NR3R4、-NR5C(NCN)NR3R4、-NR3R4、C1-C10烷基、C2-C10烯基、C2-C10炔基、C3-C10環(huán)烷基、C3-C10環(huán)烷基烷基、-S(O)j(C1-C6烷基)、-S(O)j(CR4R5)m-芳基、芳基、芳基烷基、雜芳基、雜芳基烷基、雜環(huán)基、雜環(huán)基烷基、-O(CR4R5)m-芳基、-NR4(CR4R5)m-芳基、-O(CR4R5)m-雜芳基、-NR4(CR4R5)m-雜芳基、-O(CR4R5)m-雜環(huán)基或-NR4(CR4R5)m-雜環(huán)基，其中所述烷基、烯基、炔基、環(huán)烷基、芳基、芳基烷基、雜芳基、雜芳基烷基、雜環(huán)基和雜環(huán)基烷基部分中的任意一個(gè)均任選被一個(gè)或多個(gè)獨(dú)立地選自如下的基團(tuán)取代：氧代、鹵素、氰基、硝基、三氟甲基、二氟甲氧基、三氟甲氧基、疊氮基、-NR4SO2R6、-SO2NR3R4、-C(O)R3、-C(O)OR3、-OC(O)R3、-NR4C(O)OR6、-NR4C(O)R3、-C(O)NR3R4、-NR3R4、-NR5C(O)NR3R4、-NR5C(NCN)NR3R4、-OR3、芳基、雜芳基、芳基烷基、雜芳基烷基、雜環(huán)基和雜環(huán)基烷基； R3為氫、三氟甲基、C1-C10烷基、C2-C10烯基、C2-C10炔基、C3-C10環(huán)烷基、C3-C10環(huán)烷基烷基、芳基、芳基烷基、雜芳基、雜芳基烷基、雜環(huán)基、雜環(huán)基烷基、磷酸鹽或氨基酸殘基，其中所述烷基、烯基、炔基、環(huán)烷基、芳基、芳基烷基、雜芳基、雜芳基烷基、雜環(huán)基和雜環(huán)基烷基部分中的任意一個(gè)均任選被一個(gè)或多個(gè)獨(dú)立地選自如下的基團(tuán)取代：氧代、鹵素、氰基、硝基、三氟甲基、二氟甲氧基、三氟甲氧基、疊氮基、-NR’SO2R””、-SO2NR’R”、-C(O)R’、-C(O)OR’、-OC(O)R、-NR’ C(O)OR””、-NR’C(O)R”、-C(O)NR’R”、-SR’、-S(O)R””、-SO2R””、-NR’R”、-NR’C(O)NR”R、-NR’C(NCN)NR”R、-OR’、芳基、雜芳基、芳基烷基、雜芳基烷基、雜環(huán)基和雜環(huán)基烷基， 或者R3和R4與它們連接的原子一起形成4-10元碳環(huán)、雜芳基環(huán)或雜環(huán)，其中所述碳環(huán)、雜芳基環(huán)或雜環(huán)中的任意一個(gè)均任選被一個(gè)或多個(gè)獨(dú)立地選自如下的基團(tuán)取代：鹵素、氰基、硝基、三氟甲基、二氟甲氧基、三氟甲氧基、疊氮基、-NR’SO2R””、-SO2NR’R”、-C(O)R’、-C(O)OR’、-OC(O)R’、-NR’C(O)OR””、-NR’C(O)R”、-C(O)NR’R”、-SO2R””、-NR’R”、-NR’C(O)NR”R、-NR’C(NCN)NR”R、-OR’、芳基、雜芳基、芳基烷基、雜芳基烷基、雜環(huán)基和雜環(huán)基烷基； R’、R”和R獨(dú)立地為氫、低級(jí)烷基、低級(jí)烯基、芳基或芳基烷基，而R””為低級(jí)烷基、低級(jí)烯基、芳基或芳基烷基，或者R’、R”、R或R””中的任意兩個(gè)與它們連接的原子一起形成4-10元碳環(huán)、雜芳基環(huán)或雜環(huán)，其中所述烷基、烯基、芳基、芳基烷基、碳環(huán)、雜芳基環(huán)或雜環(huán)中的任意一個(gè)均任選被一個(gè)或多個(gè)獨(dú)立地選自如下的基團(tuán)取代：鹵素、氰基、硝基、三氟甲基、二氟甲氧基、三氟甲氧基、疊氮基、芳基、雜芳基、芳基烷基、雜芳基烷基、雜環(huán)基和雜環(huán)基烷基； R4和R5獨(dú)立地為氫或C1-C6烷基，或者 R4和R5與它們連接的原子一起形成4-10元碳環(huán)、雜芳基環(huán)或雜環(huán)，其中所述烷基或所述碳環(huán)、雜芳基環(huán)和雜環(huán)中的任意一個(gè)均任選被一個(gè)或多個(gè)獨(dú)立地選自如下的基團(tuán)取代：鹵素、氰基、硝基、三氟甲基、二氟甲氧基、三氟甲氧基、疊氮基、-NR’SO2R””、-SO2NR’R”、-C(O)R””、-C(O)OR’、-OC(O)R’、-NR’C(O)OR””、-NR’C(O)R”、-C(O)NR’R”、-SO2R””、-NR’R”、-NR’C(O)NR”R、-NR’C(NCN)NR”R、-OR’、芳基、雜芳基、芳基烷基、雜芳基烷基、雜環(huán)基和雜環(huán)基烷基； R6為三氟甲基、C1-C10烷基、C3-C10環(huán)烷基、芳基、芳基烷基、雜芳基、雜芳基烷基、雜環(huán)基或雜環(huán)基烷基，其中所述烷基、環(huán)烷基、芳基、芳基烷基、雜芳基、雜芳基烷基、雜環(huán)基和雜環(huán)基烷基部分中的任意一個(gè)均任選被一個(gè)或多個(gè)獨(dú)立地選自如下的基團(tuán)取代：氧代、鹵素、氰基、硝基、三氟甲基、二氟甲氧基、三氟甲氧基、疊氮基、-NR’SO2R””、-SO2NR’R”、-C(O)R’、-C(O)OR’、-OC(O)R’、-NR’C(O)OR””、-NR’C(O)R”、-C(O)NR’R”、-SO2R””、-NR’R’、-NR’C(O)NR”R、-NR’C(NCN)NR”R、-OR’、芳基、雜芳基、芳基烷基、雜芳基烷基、雜環(huán)基和雜環(huán)基烷基； W為雜芳基、雜環(huán)基、-C(O)OR3、-C(O)NR3R4、-C(O)NR4OR3、-C(O)R4OR3、-C(O)(C3-C10環(huán)烷基)、-C(O)(C1-C10烷基)、-C(O)(芳基)、-C(O)(雜芳基)、-C(O)(雜環(huán)基)、-CONH(SO2)CH3或CR3OR3，其中所述雜芳基、雜環(huán)基、-C(O)OR3、-C(O)NR3R4、-C(O)NR4OR3、-C(O)R4OR3、-C(O)(C3-C10環(huán)烷基)、-C(O)(C1-C10烷基)、-C(O)(芳基)、-C(O)(雜芳基)、-C(O)(雜環(huán)基)、-CONH(SO2)CH3和CR3OR3中的任意一個(gè)均任選被一個(gè)或多個(gè)獨(dú)立地選自如下的基團(tuán)取代：-NR3R4、-OR3、-R2、C1-C10烷基、C2-C10烯基和C2-C10炔基，其中所述C1-C10烷基、C2-C10烯基和C2-C10炔基中的任意一個(gè)均任選被一 |
| 摘要 | 本發(fā)明公開了式(I)的化合物及其藥學(xué)可接受的鹽和前藥，其中R1、R2、R7、R8、R9、R10、W和Y如說明書中所定義。這些化合物是MEK抑制劑，用于治療哺乳動(dòng)物中過度增殖性疾病例如癌癥和炎癥。本發(fā)明還公開了使用這些化合物治療哺乳動(dòng)物中過度增殖性疾病的方法以及含有這些化合物的藥物組合物。 |
| 國際公布 | 2005-03-17 WO2005/023759 英 |
